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– PVD真空濺鍍
可用於線性滑軌、直線導航系列滑軌、零組件、傳動機械組件、傳動元件
符合綠色產品規範(例如ROHS…)
真空環境下使用電漿濺鍍,以能量轉移方式,於工件上進行薄膜沉積
可以快速達成沉積速率、準確的沉積厚度控制、精確的成分控制
色彩多樣性:黑色、銀色、金色、玫瑰金
優越的附著力:高附著力和耐久性,折彎不裂化
相較傳統鍍鉻美觀,無電鍍吊痕
膜層均勻硬度高,膜厚約±0.2μm附著性好
適用材質:鐵、鋁、銅、不锈鋼、黑皮鐵,且不拘金屬材料、非金屬材料均可應用
適用高階半導體、液晶、光電、封裝、封測、無塵室、醫療、海洋及航太、刀具模具、治具與機械
硬 度
HV1700
。
~ 1900
。
膜 厚
單邊0.2~0.5μ,鍍層均勻度極佳
色 澤
黑色、銀色、金色、玫瑰金
磨擦係數
~0.16μ
k
熔 點
450~500℃
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